Low-Temperature low-resistivity PEALD TiN using TDMAT under hydrogen redecing ambient - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Journal of The Electrochemical Society Année : 2008

Low-Temperature low-resistivity PEALD TiN using TDMAT under hydrogen redecing ambient

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00374706 , version 1 (09-04-2009)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00374706 , version 1

Citer

P. Caubet, T. Blomberg, R. Benaboud, C. Wyon, E. Blanquet, et al.. Low-Temperature low-resistivity PEALD TiN using TDMAT under hydrogen redecing ambient. Journal of The Electrochemical Society, 2008, 155 (8), pp.625-632. ⟨hal-00374706⟩

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