Etching characteristics and absence of electrical properties damage of PZT thin films etched before crystallization

R.H. Liang; Denis Remiens; Caroline Soyer; N. Sama; X.L. Dong; G.S. Wang

doi:10.1016/j.mee.2007.12.031

Article Dans Une Revue Microelectronic Engineering Année : 2008

Etching characteristics and absence of electrical properties damage of PZT thin films etched before crystallization

, (1) , , , ,

1

R.H. Liang

Fonction : Auteur

Denis Remiens

Fonction : Auteur
PersonId : 751690
IdHAL : denis-remiens
ORCID : 0000-0002-6761-1442

Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520

Caroline Soyer

Fonction : Auteur
PersonId : 748061
IdHAL : caroline-soyer

N. Sama

Fonction : Auteur
PersonId : 760861
ORCID : 0000-0002-9761-4687

X.L. Dong

Fonction : Auteur

G.S. Wang

Fonction : Auteur

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https://hal.science/hal-00360094

Soumis le : mardi 10 février 2009-11:41:26

Dernière modification le : mercredi 24 janvier 2024-09:54:18

Dates et versions

hal-00360094 , version 1 (10-02-2009)

Identifiants

HAL Id : hal-00360094 , version 1
DOI : 10.1016/j.mee.2007.12.031

Citer

R.H. Liang, Denis Remiens, Caroline Soyer, N. Sama, X.L. Dong, et al.. Etching characteristics and absence of electrical properties damage of PZT thin films etched before crystallization. Microelectronic Engineering, 2008, 85, pp.670-674. ⟨10.1016/j.mee.2007.12.031⟩. ⟨hal-00360094⟩

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