Article Dans Une Revue
Thin Solid Films
Année : 2008
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https://hal.science/hal-00357299
Soumis le : vendredi 30 janvier 2009-09:02:14
Dernière modification le : jeudi 19 octobre 2023-03:21:43
Citer
D. Cammilleri, F. Fossard, Mathieu Halbwax, C.T. Manh, V. Yam, et al.. Localized laser thermal annealing of nanometric SiGe layers protected by a dielectric Bragg mirror. Thin Solid Films, 2008, 517, pp.327-330. ⟨10.1016/j.tsf.2008.08.147⟩. ⟨hal-00357299⟩
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