Localized laser thermal annealing of nanometric SiGe layers protected by a dielectric Bragg mirror - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Thin Solid Films Année : 2008

Localized laser thermal annealing of nanometric SiGe layers protected by a dielectric Bragg mirror

D. Cammilleri
  • Fonction : Auteur
F. Fossard
  • Fonction : Auteur
Mathieu Halbwax
C.T. Manh
  • Fonction : Auteur
V. Yam
  • Fonction : Auteur
D. Debarre
  • Fonction : Auteur
J. Boulmer
  • Fonction : Auteur
D. Bouchier
  • Fonction : Auteur

Dates et versions

hal-00357299 , version 1 (30-01-2009)

Identifiants

Citer

D. Cammilleri, F. Fossard, Mathieu Halbwax, C.T. Manh, V. Yam, et al.. Localized laser thermal annealing of nanometric SiGe layers protected by a dielectric Bragg mirror. Thin Solid Films, 2008, 517, pp.327-330. ⟨10.1016/j.tsf.2008.08.147⟩. ⟨hal-00357299⟩
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