ALPO4 -18 seed layers and films by secondary growth - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Chemistry of Materials Année : 2008

ALPO4 -18 seed layers and films by secondary growth

Lubomira Tosheva
  • Fonction : Auteur
Manfred Holzl
  • Fonction : Auteur
Till H. Metzger
  • Fonction : Auteur
Aidan M. Doyle
  • Fonction : Auteur

Domaines

Matériaux
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00345473 , version 1 (09-12-2008)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00345473 , version 1

Citer

Lubomira Tosheva, Eng-Poh Ng, Svetlana Mintova, Manfred Holzl, Till H. Metzger, et al.. ALPO4 -18 seed layers and films by secondary growth. Chemistry of Materials, 2008, 20 (17), pp.5721-5726. ⟨hal-00345473⟩
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