Communication Dans Un Congrès
Année : 2008
Yolande Sambin : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-00316546
Soumis le : mercredi 3 septembre 2008-10:50:23
Dernière modification le : vendredi 24 mars 2023-14:52:50
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-00316546 , version 1
Citer
Khaled Belarbi, Khalid Kandoussi, Claude Simon, Nathalie . Coulon, Tayeb Mohammed-Brahim. Silicon dioxide or silicon nitride as gate insulator of low temperature (T<200°C) processed microcrystalline silicon thin film transistors. European MRS Spring meeting, Symposium E,, May 2008, Strasbourg, France. ⟨hal-00316546⟩
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