Thermodynamic analysis of the vaporisation in the SiC-Al203 and SiC-Al203 systems. - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Journal of the European Ceramic Society Année : 2002

Thermodynamic analysis of the vaporisation in the SiC-Al203 and SiC-Al203 systems.

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00297275 , version 1 (15-07-2008)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00297275 , version 1

Citer

S. Baud, F. Thevenot, A. Pisch, C. Chatillon. Thermodynamic analysis of the vaporisation in the SiC-Al203 and SiC-Al203 systems.. Journal of the European Ceramic Society, 2002. ⟨hal-00297275⟩
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