Influence of ion energy on the physical properties of plasma deposited SiO2 fims - Archive ouverte HAL
Article Dans Une Revue Applied Physics Letters Année : 1993

Influence of ion energy on the physical properties of plasma deposited SiO2 fims

R. Burke
  • Fonction : Auteur
C. Martinet
R. A. B. Devine
  • Fonction : Auteur
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00282427 , version 1 (27-05-2008)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00282427 , version 1

Citer

R. Burke, L. Vallier, C. Martinet, R. A. B. Devine, O. R. Joubert. Influence of ion energy on the physical properties of plasma deposited SiO2 fims. Applied Physics Letters, 1993, 62(3), pp.228. ⟨hal-00282427⟩

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