Influence of ion energy on the physical properties of plasma deposited SiO2 fims - Archive ouverte HAL
Article Dans Une Revue Applied Physics Letters Année : 1993

Influence of ion energy on the physical properties of plasma deposited SiO2 fims

R. Burke
  • Fonction : Auteur
L. Vallier
  • Fonction : Auteur
Laboratoire des technologies de la microélectronique
C. Martinet
CV
R. A. B. Devine
  • Fonction : Auteur
O. R. Joubert
  • Fonction : Auteur
Laboratoire des technologies de la microélectronique

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Soumis le : mardi 27 mai 2008-15:20:36

Dernière modification le : mercredi 24 avril 2024-11:28:54

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Dates et versions

hal-00282427 , version 1 (27-05-2008)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00282427 , version 1

Citer

R. Burke, L. Vallier, C. Martinet, R. A. B. Devine, O. R. Joubert. Influence of ion energy on the physical properties of plasma deposited SiO2 fims. Applied Physics Letters, 1993, 62(3), pp.228. ⟨hal-00282427⟩

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