Article Dans Une Revue Journal of Applied Physics Année : 2007

X-ray photoelectron spectroscopy study of the oxidation of Se passivated Si(001)

F.S. Aguirre-Tostado
  • Fonction : Auteur
D. Layton
  • Fonction : Auteur
A. Herrera-Gomez
  • Fonction : Auteur
R.M. Wallace
  • Fonction : Auteur
J. Zhu
  • Fonction : Auteur
E. Maldonado
  • Fonction : Auteur
W.P. Kirk
  • Fonction : Auteur
M. Tao
  • Fonction : Auteur
Fichier principal
Vignette du fichier
Aguirre-Tostado_2007_1.2794858.pdf (1.52 Mo) Télécharger le fichier
Origine Fichiers éditeurs autorisés sur une archive ouverte
Licence

Dates et versions

hal-00255854 , version 1 (25-05-2022)

Licence

Identifiants

Citer

F.S. Aguirre-Tostado, D. Layton, A. Herrera-Gomez, R.M. Wallace, J. Zhu, et al.. X-ray photoelectron spectroscopy study of the oxidation of Se passivated Si(001). Journal of Applied Physics, 2007, 102, pp.084901-1-7. ⟨10.1063/1.2794858⟩. ⟨hal-00255854⟩
88 Consultations
964 Téléchargements

Altmetric

Partager

  • More