Communication Dans Un Congrès
Année : 2007
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https://hal.science/hal-00243149
Soumis le : mercredi 6 février 2008-20:48:37
Dernière modification le : mardi 12 novembre 2024-17:13:51
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-00243149 , version 1
Citer
Jeremie Capoulade, Laurent Gallais, Jean-Yves Natoli, Mireille Commandre, Michel Cathelinaud, et al.. Laser Damage Resistance of HfO2 Thin Films Deposited by Electron Beam Deposition, Reactive Low Voltage Ion Plating and Dual Ion Beam Sputtering. Optical Interference Coatings (OIC) 2007, 2007, Tucson, United States. ⟨hal-00243149⟩
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