Elaboration of Ta2O5 Thin Films Using Electrostatic Spray Deposition for Microelectronic Applications - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Journal of Physical Chemistry C Année : 2007

Elaboration of Ta2O5 Thin Films Using Electrostatic Spray Deposition for Microelectronic Applications

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00196396 , version 1 (12-12-2007)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00196396 , version 1

Citer

A. Lintanf, A. Mantoux, E. Blanquet, E. Djurado. Elaboration of Ta2O5 Thin Films Using Electrostatic Spray Deposition for Microelectronic Applications. Journal of Physical Chemistry C, 2007, 111 (15), pp.5708-5714. ⟨hal-00196396⟩

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