Influence of cathode roughness on discharge homogeneity of a high PRF long pulse XeCl laser - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Applied Physics B - Laser and Optics Année : 1998
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Dates et versions

hal-00195562 , version 1 (11-12-2007)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00195562 , version 1

Citer

Olivier Uteza, P. Delaporte, B. Fontaine, B.M. Forestier, M. Sentis, et al.. Influence of cathode roughness on discharge homogeneity of a high PRF long pulse XeCl laser. Applied Physics B - Laser and Optics, 1998, 67, pp.185 - 191. ⟨hal-00195562⟩

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