Article Dans Une Revue
Applied Physics B - Laser and Optics
Année : 1998
Olivier Uteza : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-00195562
Soumis le : mardi 11 décembre 2007-11:01:06
Dernière modification le : vendredi 24 mars 2023-14:52:49
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-00195562 , version 1
Citer
Olivier Uteza, P. Delaporte, B. Fontaine, B.M. Forestier, M. Sentis, et al.. Influence of cathode roughness on discharge homogeneity of a high PRF long pulse XeCl laser. Applied Physics B - Laser and Optics, 1998, 67, pp.185 - 191. ⟨hal-00195562⟩
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