Photoresist development Model for Linewidth Control in the fabrication of MCM and Customised ASICs - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Journal de Physique III France Année : 1996

Photoresist development Model for Linewidth Control in the fabrication of MCM and Customised ASICs

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00183962 , version 1 (30-10-2007)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00183962 , version 1

Citer

Emmanuel Saint-Christophe, Hélène Fremont, Mohammed Fathi, Yves Danto. Photoresist development Model for Linewidth Control in the fabrication of MCM and Customised ASICs. Journal de Physique III France, 1996, 1, pp.1507-1526. ⟨hal-00183962⟩
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