Article Dans Une Revue
Journal de Physique III France
Année : 1996
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https://hal.science/hal-00183962
Soumis le : mardi 30 octobre 2007-12:41:37
Dernière modification le : lundi 5 juin 2023-16:52:11
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-00183962 , version 1
Citer
Emmanuel Saint-Christophe, Hélène Fremont, Mohammed Fathi, Yves Danto. Photoresist development Model for Linewidth Control in the fabrication of MCM and Customised ASICs. Journal de Physique III France, 1996, 1, pp.1507-1526. ⟨hal-00183962⟩
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