Condensation coefficients in plasma sputtering deposition - Archive ouverte HAL
Article Dans Une Revue Journal of Physics D: Applied Physics Année : 2007

Condensation coefficients in plasma sputtering deposition

Résumé

Optical emission spectroscopy and Rutherford backscattering spectrometry are combined to determine condensation coefficients for plasma sputtering deposition. The method is applied for palladium deposition onto various substrates and condensation coefficients are found to lie between 0.4 and 0.9.

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Soumis le : vendredi 3 octobre 2008-23:20:28

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hal-00180178 , version 1 (03-10-2008)

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Pascal Brault, A.-L. Thomann, J.-P. Rozenbaum. Condensation coefficients in plasma sputtering deposition. Journal of Physics D: Applied Physics, 2007, 40, pp.2121-2123. ⟨10.1088/0022-3727/40/7/039⟩. ⟨hal-00180178⟩

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