Article Dans Une Revue Microelectronics Reliability Année : 2007
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Dates et versions

hal-00160207 , version 1 (05-07-2007)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00160207 , version 1

Citer

Kisten Weide-Zaage, David Dalleau, Yves Danto, Hélène Frémont. Dynamic void formation in a DD-copper-structure with different metallization geometry. Microelectronics Reliability, 2007, 47 (2-3), pp.319-325. ⟨hal-00160207⟩
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