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Communication Dans Un Congrès Année : 2000

A low dielectric film obtained by polymerisation of tetramethyldisiloxane using a remote plasma enhanced chemical vapor deposition (RPECVD) process

J. Vindevoghel
  • Fonction : Auteur
D. Glay
C.E. Jama
  • Fonction : Auteur
O. Dessaux
  • Fonction : Auteur
P. Goudmand
  • Fonction : Auteur
J.L. Miane
  • Fonction : Auteur
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00158145 , version 1 (28-06-2007)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00158145 , version 1

Citer

E. Vestiel, J. Vindevoghel, D. Glay, C.E. Jama, O. Dessaux, et al.. A low dielectric film obtained by polymerisation of tetramethyldisiloxane using a remote plasma enhanced chemical vapor deposition (RPECVD) process. 2000, 4 pp. ⟨hal-00158145⟩
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