Communication Dans Un Congrès
Année : 2000
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https://hal.science/hal-00158145
Soumis le : jeudi 28 juin 2007-10:35:31
Dernière modification le : mercredi 24 janvier 2024-09:54:18
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-00158145 , version 1
Citer
E. Vestiel, J. Vindevoghel, D. Glay, C.E. Jama, O. Dessaux, et al.. A low dielectric film obtained by polymerisation of tetramethyldisiloxane using a remote plasma enhanced chemical vapor deposition (RPECVD) process. 2000, 4 pp. ⟨hal-00158145⟩
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