A wet etching solution for antimonid-based field effect transistor processing - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2001
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00152072 , version 1 (06-06-2007)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00152072 , version 1

Citer

Hervé Boutry, R. Fauquembergue, Jean-Luc Thobel, François Dessenne. A wet etching solution for antimonid-based field effect transistor processing. 11th European Heterostrucrure Technology Workshop, HETECH 01, 2001, Padova, Italy. ⟨hal-00152072⟩
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