A wet etching solution for antimonid-based field effect transistor processing - Archive ouverte HAL
Communication Dans Un Congrès Année : 2001

A wet etching solution for antimonid-based field effect transistor processing

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Sciences de l'ingénieur [physics]

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https://hal.science/hal-00152072

Soumis le : mercredi 6 juin 2007-09:33:25

Dernière modification le : mercredi 24 janvier 2024-09:54:18

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00152072 , version 1 (06-06-2007)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00152072 , version 1

Citer

Hervé Boutry, R. Fauquembergue, Jean-Luc Thobel, François Dessenne. A wet etching solution for antimonid-based field effect transistor processing. 11th European Heterostrucrure Technology Workshop, HETECH 01, 2001, Padova, Italy. ⟨hal-00152072⟩

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