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Communication Dans Un Congrès Année : 2006

High mobility nanometer-scaled CMOS: opportunities and challenges

T. Ernst
  • Fonction : Auteur
F. Andrieu
  • Fonction : Auteur
O. Weber
  • Fonction : Auteur
C. Dupré
  • Fonction : Auteur
O. Faynot
  • Fonction : Auteur
F. Ducroquet
  • Fonction : Auteur
L. Clavelier
  • Fonction : Auteur
J.M. Hartmann
  • Fonction : Auteur
S. Barraud
  • Fonction : Auteur
S. Deleonibus
  • Fonction : Auteur
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00145675 , version 1 (11-05-2007)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00145675 , version 1

Citer

T. Ernst, F. Andrieu, O. Weber, C. Dupré, O. Faynot, et al.. High mobility nanometer-scaled CMOS: opportunities and challenges. Third International SiGe Technology and Device Meeting (ISTDM), May 2006, Princeton, New Jersey, United States. ⟨hal-00145675⟩

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