Communication Dans Un Congrès
Année : 2006
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https://hal.science/hal-00138695
Soumis le : mardi 27 mars 2007-10:55:03
Dernière modification le : mercredi 24 janvier 2024-09:54:18
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-00138695 , version 1
Citer
Christophe Krzeminski, V. Cuny, E. Lecat, E. Lampin, A. Pakfar, et al.. Atomistic simulation of solid phase epitaxy of amorphous silicon : influence of the interatomic potential on the recristallisation velocity. Materials Research Society Spring Meeting, MRS Spring 2006, Sub-Second Rapid Thermal Processing for Device Fabrication, 2006, Moscone West, San-Franscico, CA, United States. ⟨hal-00138695⟩
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