Article Dans Une Revue
Microelectronic Engineering
Année : 2006
Collection IEMN : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-00138652
Soumis le : mardi 27 mars 2007-10:22:57
Dernière modification le : mercredi 24 janvier 2024-09:54:18
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-00138652 , version 1
Citer
F. Fruleux, J. Penaud, Emmanuel Dubois, M. Francois, M. Muller. Optimisation of HSQ e-beam lithography for the patterning of FinFET transistors. Microelectronic Engineering, 2006, 83, pp.776-779. ⟨hal-00138652⟩
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