Interferometry system for the mechanical characterization of membranes with silicon oxynitride thin films fabricated by PECVD - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2003
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00094446 , version 1 (14-09-2006)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00094446 , version 1

Citer

M. Jozwik, P. Delobelle, A. Sabac, C. Gorecki. Interferometry system for the mechanical characterization of membranes with silicon oxynitride thin films fabricated by PECVD. 2003, pp. 79-84. ⟨hal-00094446⟩
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