Interferometry system for the mechanical characterization of membranes with silicon oxynitride thin films fabricated by PECVD - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2002

Interferometry system for the mechanical characterization of membranes with silicon oxynitride thin films fabricated by PECVD

M. Jozwik
  • Fonction : Auteur
A. Sabac
Christophe Gorecki
  • Fonction : Auteur
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00092692 , version 1 (12-09-2006)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00092692 , version 1

Citer

M. Jozwik, Patrick Delobelle, A. Sabac, Christophe Gorecki. Interferometry system for the mechanical characterization of membranes with silicon oxynitride thin films fabricated by PECVD. SPIE 2002, 2002, Brugge, Belgique. ⟨hal-00092692⟩
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