Oral : "PECVD low k thin film as dielectric barrier for advanced microelectronic inter-connections" - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2005

Oral : "PECVD low k thin film as dielectric barrier for advanced microelectronic inter-connections"

L. Favennec
  • Fonction : Auteur
V. Jousseaume
  • Fonction : Auteur
V. Rouessac
G. Passemard
  • Fonction : Auteur
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00083110 , version 1 (29-06-2006)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00083110 , version 1

Citer

L. Favennec, V. Jousseaume, V. Rouessac, J. Durand, G. Passemard. Oral : "PECVD low k thin film as dielectric barrier for advanced microelectronic inter-connections". 15th International Colloquium on Plasma Processes - June 5-9, 2005, 2005, Autrans, France. ⟨hal-00083110⟩
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