Communication Dans Un Congrès
Année : 2005
Nathalie Bonneval : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-00083110
Soumis le : jeudi 29 juin 2006-15:15:30
Dernière modification le : jeudi 11 avril 2024-13:08:12
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-00083110 , version 1
Citer
L. Favennec, V. Jousseaume, V. Rouessac, J. Durand, G. Passemard. Oral : "PECVD low k thin film as dielectric barrier for advanced microelectronic inter-connections". 15th International Colloquium on Plasma Processes - June 5-9, 2005, 2005, Autrans, France. ⟨hal-00083110⟩
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