Oral : "PECVD low k thin film as dielectric barrier for advanced microelectronic inter-connections" - Archive ouverte HAL
Communication Dans Un Congrès Année : 2005

Oral : "PECVD low k thin film as dielectric barrier for advanced microelectronic inter-connections"

L. Favennec
  • Fonction : Auteur
V. Jousseaume
  • Fonction : Auteur
V. Rouessac
Institut Européen des membranes
CV
J. Durand
  • Fonction : Auteur
  • PersonId : 1104751
Institut Européen des membranes
G. Passemard
  • Fonction : Auteur

Nathalie Bonneval  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.science/hal-00083110

Soumis le : jeudi 29 juin 2006-15:15:30

Dernière modification le : lundi 17 juin 2024-09:09:41

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00083110 , version 1 (29-06-2006)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00083110 , version 1

Citer

L. Favennec, V. Jousseaume, V. Rouessac, J. Durand, G. Passemard. Oral : "PECVD low k thin film as dielectric barrier for advanced microelectronic inter-connections". 15th International Colloquium on Plasma Processes - June 5-9, 2005, 2005, Autrans, France. ⟨hal-00083110⟩

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