ARXPS double layers model for in-situ characterization of MOCVD nanometric films. - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2006

ARXPS double layers model for in-situ characterization of MOCVD nanometric films.

Domaines

Matériaux
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00080223 , version 1 (15-06-2006)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00080223 , version 1

Citer

A. Brevet, L. Imhoff, B. Domenichini, M.-C. Marco de Lucas, S. Bourgeois. ARXPS double layers model for in-situ characterization of MOCVD nanometric films.. E-MRS IUMRS ICEM 2006, May 2006, Nice, France. ⟨hal-00080223⟩
28 Consultations
0 Téléchargements

Partager

Gmail Facebook X LinkedIn More