Communication Dans Un Congrès
Année : 2005
Patrick Schiavone : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-00023230
Soumis le : vendredi 21 avril 2006-12:34:53
Dernière modification le : jeudi 4 avril 2024-20:52:54
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-00023230 , version 1
Citer
Patrick Schiavone, Rafik Smaali, David Fuard, Maxime Besacier. 3D simulation using Modal Method by Fourier Expansion: application to EUV lithography and scatterometry. Fraunhofer IISB Lithography Simulation Workshop, 2005, Pommersfelden, Germany. ⟨hal-00023230⟩
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