Faisabilité et croissance avec haute reproductibilité de multicouches métalliques à magnétorésistance géante par pulvérisation diode RF - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Journal de Physique IV Proceedings Année : 1996

Faisabilité et croissance avec haute reproductibilité de multicouches métalliques à magnétorésistance géante par pulvérisation diode RF

J. Ben Youssef
H. Le Gall
  • Fonction : Auteur
K. Bouziane
  • Fonction : Auteur
M. El Harfaoui
  • Fonction : Auteur
O. Koshkina
  • Fonction : Auteur
J. Desvignes
  • Fonction : Auteur
A. Fert

Résumé

Les objectifs du présent travail sont de deux ordres : d'abord obtenir le rapport de MRG, ΔR/R, le plus élevé dans des multicouches Co/Cu élaborées à partir du procédé inhabituel de pulvérisation par diode radiofréquence (RF). En second, analyser les corrélations entre la MRG d'une part et les textures et rugosités interfaciales déduites des diffractions X aux petits et grands angles et de la microscopie à force atomique (MFA) d'autre part. A cet effet, nous avons cherché à induire différentes structures interfaciales en modifiant les paramètres de pulvérisation (pression du gaz pulvérisant PAr) ce qui, par ailleurs, a permis de définir les conditions optimales de dépôt pour l'obtention d'une MRG élevée. L'influence de l'épaisseur tCo du film Co a été étudiée pour une épaisseur du film de Cu = 9Å correspondant au premier maximum de la dépendance oscillatoire avec tCu du rapport de MRG. De ces résultats, nous concluons que le paramètre pertinent est la rugosité interfaciale qui induit un effet important à la fois sur la MRG et sur la résistivité des super-réseaux. Un changement de pente de Rs-1 en fonction de t2Co est attribué à une augmentation de l'effet de rugosité quand tCo décroît de l'échelle mésoscopique (tCo> 25Å) vers l'échelle nanoscopique (tCo< 25Å).

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jpa-00254507 , version 1 (04-02-2008)

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Citer

J. Ben Youssef, H. Le Gall, K. Bouziane, M. El Harfaoui, O. Koshkina, et al.. Faisabilité et croissance avec haute reproductibilité de multicouches métalliques à magnétorésistance géante par pulvérisation diode RF. Journal de Physique IV Proceedings, 1996, 06 (C7), pp.C7-161-C7-166. ⟨10.1051/jp4:1996719⟩. ⟨jpa-00254507⟩

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