Propriétés électriques d'hétérostructures a-GaAs/c-GaAs(n) et de structures de type MIS a-GaAsN/c-GaAs(n)
Résumé
L'étude porte sur des couches minces de GaAs et de GaAsN amorphes déposées par pulvérisation cathodique RF réactive sur des substrats de GaAs cristallin. Les caractéristiques électriques I(V) et C(V) ont été mesurées. Les hétérojonctions a-GaAs/c-GaAs(n) présentent un effet redresseur. Cet effet laisse place à une caractéristique symétrique avec une forte atténuation de l'intensité du courant pour les structures a-GaAsN/cGaAs(n). Les structures réalisées ont alors un comportement semblable à celui d'une structure MIS imparfaite. L'existence d'une charge positive fixe dans le a-GaAsN a été mise en évidence. La densité des états d'interface au milieu de la bande interdite est évaluée à quelques 1011 cm-2eV-1.
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