Nitrure d'aluminium de différentes morphologies obtenu à basse température par PACVD - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Journal de Physique III Année : 1993

Nitrure d'aluminium de différentes morphologies obtenu à basse température par PACVD

Résumé

Le dépôt chimique en phase vapeur d'organo-métalliques assisté d'un plasma réactif conduit à des revêtements cristallins de nitrure d'aluminium ayant une orientation préférentielle (10$\bar{1}$0) marquée. La dimension des cristallites dépend de la fréquence d'excitation plasma et est indépendante de la nature du substrat. Les revêtements, caractérisés par diffraction des rayons X, spectroscopies infrarouge et des électrons Auger, montrent une composition AlN. L'interphase AIN/Si a fait l'objet d'une étude particulière par microscopie électronique à transmission.

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jpa-00248952 , version 1 (04-02-2008)

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Citer

Jean Durand, Nathalie Azéma, Bemard Cros, Louis Cot. Nitrure d'aluminium de différentes morphologies obtenu à basse température par PACVD. Journal de Physique III, 1993, 3 (4), pp.713-727. ⟨10.1051/jp3:1993158⟩. ⟨jpa-00248952⟩

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