Brevet Année : 2020

Réacteur de dépôt de couches et procédé de dépôt associé

Résumé

La présente invention concerne un réacteur (10) de dépôt de couches sur un substrat (22) à revêtir, le réacteur (10) obtenant au moins une couche du dépôt par pulvérisation d'une cible (20) sur le substrat, le réacteur (10) comportant : - une première source (14) propre à émettre des ondes électromagnétiques, la première source (14) étant propre à exciter le plasma (P) entre la cible (20) et le substrat (22), et - une deuxième source (16) propre à émettre des ondes électromagnétiques, la deuxième source (16) étant propre à exciter la cible (20).

Domaines

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-04972242 , version 1 (28-02-2025)

Identifiants

  • HAL Id : hal-04972242 , version 1

Citer

Audrey Soum-Glaude, Laurent Thomas, Sébastien Quoizola, Laurie Di Giacomo, Emmanuel Hernandez. Réacteur de dépôt de couches et procédé de dépôt associé. France, N° de brevet: EP3710614A1. 2020. ⟨hal-04972242⟩
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