Communication Dans Un Congrès
Année : 2024
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https://hal.science/hal-04799826
Soumis le : samedi 23 novembre 2024-14:45:25
Dernière modification le : samedi 27 septembre 2025-18:38:54
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-04799826 , version 1
Citer
Jeremy Vives, Fabien Deprat, Marvin Frauenrath, Stephane Verdier, Ece Aybeke, et al.. Benchmarking of HCl-Based Cyclic Deposition / Etch (CDE) and Single Deposition / Etch (DE) Processes for Selective Epitaxial Growth of SiGeC:B Films. PRiME 2024, The Electrochemical Society, Oct 2024, Honolulu, HI, United States. ⟨hal-04799826⟩
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