Communication Dans Un Congrès Année : 2024
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-04799826 , version 1 (23-11-2024)

Identifiants

  • HAL Id : hal-04799826 , version 1

Citer

Jeremy Vives, Fabien Deprat, Marvin Frauenrath, Stephane Verdier, Ece Aybeke, et al.. Benchmarking of HCl-Based Cyclic Deposition / Etch (CDE) and Single Deposition / Etch (DE) Processes for Selective Epitaxial Growth of SiGeC:B Films. PRiME 2024, The Electrochemical Society, Oct 2024, Honolulu, HI, United States. ⟨hal-04799826⟩
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