Communication Dans Un Congrès Année : 2019

Tuning the Texture and Electrical Properties of Cu2O Thin Films Deposited via Aerosol-Assisted CVD

Domaines

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-04762096 , version 1 (31-10-2024)

Identifiants

  • HAL Id : hal-04762096 , version 1

Citer

Hongjun Liu, Viet Huong Nguyen, Herve Roussel, Isabelle Gélard, Laetitia Rapenne, et al.. Tuning the Texture and Electrical Properties of Cu2O Thin Films Deposited via Aerosol-Assisted CVD. E‐MRS Spring Meeting, May 2019, Nice, France. ⟨hal-04762096⟩
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