Assessment of the chemical durability of CVD-amorphous SiO2 thin films
| Origine | Fichiers produits par l'(les) auteur(s) |
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| Licence |
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https://hal.science/hal-04743434
Soumis le : lundi 3 mars 2025-17:38:21
Dernière modification le : lundi 12 janvier 2026-14:42:02