Communication Dans Un Congrès Année : 2023

Assessment of the chemical durability of CVD-amorphous SiO2 thin films

Brigitte Caussat
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Dates et versions

hal-04743434 , version 1 (03-03-2025)

Identifiants

  • HAL Id : hal-04743434 , version 1

Citer

Farah Inoubli, Babacar Diallo, Konstantina Christina Topka, Thierry Sauvage, Emmanuel Veron, et al.. Assessment of the chemical durability of CVD-amorphous SiO2 thin films. DGG-USTV 2023, French Union for Science and Glass Technology and of the German Society of Glass Technology, May 2023, Orléans, France. ⟨hal-04743434⟩
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