Suivi in-situ de dépôts CVD de SiON - Archive ouverte HAL
Communication Dans Un Congrès Année : 2024

Suivi in-situ de dépôts CVD de SiON

Stéphane Calvez
Équipe Photonique
Ulysse Legallois
  • Fonction : Auteur
Laboratoire d'analyse et d'architecture des systèmes
Pascal Dubreuil
Service Techniques et Équipements Appliqués à la Microélectronique
Olivier Gauthier-Lafaye
Équipe Photonique
CV

Domaines

Physique [physics]
Calvez_Fermat2024_PECVD_insitu_monitoring.pdf (6.51 Mo) Télécharger le fichier
Origine Fichiers produits par l'(les) auteur(s)

Stéphane Calvez  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.science/hal-04693843

Soumis le : mercredi 11 septembre 2024-09:03:25

Dernière modification le : mercredi 25 septembre 2024-16:55:44

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Dates et versions

hal-04693843 , version 1 (11-09-2024)

Licence

Paternité

Identifiants

  • HAL Id : hal-04693843 , version 1

Citer

Stéphane Calvez, Ulysse Legallois, Pascal Dubreuil, Olivier Gauthier-Lafaye. Suivi in-situ de dépôts CVD de SiON. Journée thématique Développement d'outils sur mesure de synthèse et de caractérisation des matériaux (Journée MATAPP 2024), Fédération Fermat, May 2024, Toulouse, France. ⟨hal-04693843⟩

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