Fabrication de métasurfaces photoniques en GaN sur saphir - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2024

Fabrication de métasurfaces photoniques en GaN sur saphir

Résumé

Les applications de la lithographie électronique pour la nanophotonique sont vastes, couvrant une gamme allant des résonateurs optiques individuels et des nano antennes aux métasurfaces et autres structures encore plus complexes. Les systèmes de lithographie actuels, grâce à la résolution élevée des sources et à un contrôle de faisceau performant, permettent de créer avec précision des motifs sur des substrats, offrant ainsi un contrôle fin sur les propriétés optiques des matériaux. Cependant, à mesure que la complexité des structures augmente, il devient essentiel d'optimiser la conception des designs. Les défis pour obtenir des structures parfaites sont nombreux : les jonctions entre les zones d'écriture (stitching) en lithographie électronique, les doses d’exposition adaptées aux motifs de tailles différentes, etc. Nous présentons ici un workflow complet pour la fabrication de nanostructures en nitrure de gallium sur saphir, comprenant la conception des nanostructures à l'aide d'un code Python, la lithographie électronique utilisant le système Pioneer RAITH, le dépôt de masque en nickel pour la gravure, et enfin la gravure du GaN par un procédé plasma réactif. Nous aborderons les difficultés rencontrées lors de ce processus ainsi que les solutions trouvées pour produire des métasurfaces de haute qualité.
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-04628944 , version 1 (28-06-2024)

Identifiants

  • HAL Id : hal-04628944 , version 1

Citer

F. Bedu, Adelin Patoux, Clément Majorel, Virginie Brandli, Sébastien Chenot, et al.. Fabrication de métasurfaces photoniques en GaN sur saphir. Journées Renatech Litho/Gravure 2024, Jun 2024, Valbonne, France. ⟨hal-04628944⟩
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