Interface defect formation for atomic layer deposition of SnO2 on metal halide perovskites
Nitin Mallik
(1)
,
Javid Hajhemati
(1)
,
Mathieu Frégnaux
(2)
,
Damien Coutancier
(1)
,
Ashish Toby
(1)
,
Shan-Ting Zhang
(1)
,
Claudia Hartmann
(3)
,
Elif Hüsam
(3)
,
Ahmed Saleh
(3)
,
Thomas Vincent
(1)
,
Olivier Fournier
(1)
,
Regan Wilks
(3)
,
Damien Aureau
(2)
,
Roberto Félix
(3)
,
Nathanaelle Schneider
(1)
,
Marcus Bär
(3)
,
Philip Schulz
(1, 4)
1
IPVF -
Institut Photovoltaïque d'Île-de-France
2 ILV - Institut Lavoisier de Versailles
3 HZB - Helmholtz-Zentrum Berlin für Materialien und Energie GmbH = Helmholtz Centre Berlin for Materials and Energy = Centre Helmholtz de Berlin pour les matériaux et l'énergie
4 IPVF - Institut Photovoltaïque d’Ile-de-France (UMR)
2 ILV - Institut Lavoisier de Versailles
3 HZB - Helmholtz-Zentrum Berlin für Materialien und Energie GmbH = Helmholtz Centre Berlin for Materials and Energy = Centre Helmholtz de Berlin pour les matériaux et l'énergie
4 IPVF - Institut Photovoltaïque d’Ile-de-France (UMR)