Optimization of Spark Plasma Sintering of electroactive microceramics: role of protective layers - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2020
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Dates et versions

hal-04567852 , version 1 (03-05-2024)

Identifiants

  • HAL Id : hal-04567852 , version 1

Citer

Maria Isabel Rua Taborda, Catherine Elissalde, U-Chan Chung, Hélène Debéda. Optimization of Spark Plasma Sintering of electroactive microceramics: role of protective layers. Electroceramics XVII Conference, Technische Universität Darmstadt - The European Ceramic Society, Aug 2020, Visioconférence, Germany. ⟨hal-04567852⟩
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