Measurement of Silicon dioxide thin film thermal conductivity using the 3-omega method - Archive ouverte HAL
Communication Dans Un Congrès Année : 2022

Measurement of Silicon dioxide thin film thermal conductivity using the 3-omega method

Domaines

Sciences de l'ingénieur [physics]

Pierre-Yves CRESSON  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.science/hal-04540668

Soumis le : mercredi 10 avril 2024-13:28:29

Dernière modification le : mardi 4 juin 2024-13:26:03

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-04540668 , version 1 (10-04-2024)

Identifiants

  • HAL Id : hal-04540668 , version 1

Citer

Amine Abdelkader Guermoudi, Pierre-Yves Cresson, Katir Ziouche, A. Ouldabbas, T. Lasri. Measurement of Silicon dioxide thin film thermal conductivity using the 3-omega method. 2nd International Seminar in Industrial Engineering and Applied Mathematics, (ISIEAM’2022), Oct 2022, Skikda, Algeria. ⟨hal-04540668⟩

Exporter

BibTeX XML-TEI Dublin Core DC Terms EndNote DataCite

Collections

UNIV-ARTOIS CNRS UNIV-VALENCIENNES IEMN UNIV-LILLE
18 Consultations
0 Téléchargements

Partager

More