Measurement of Silicon dioxide thin film thermal conductivity using the 3-omega method
Amine Abdelkader Guermoudi
(1)
,
Pierre-Yves Cresson
(2, 3, 4)
,
Katir Ziouche
(2, 5)
,
A. Ouldabbas
(1)
,
T. Lasri
(6, 7)
1
URMER -
Unité de Recherche Matériaux et Energies Renouvelables
2 IEMN - Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520
3 MITEC - IEMN - Microtechnology and Instrumentation for Thermal and Electromagnetic Characterization - IEMN
4 Université d’Artois, IUT de Béthune, 62400, Béthune, France
5 WIND - IEMN - WIde baNd gap materials and Devices - IEMN
6 IEMN - Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520
7 MITEC - IEMN - Microtechnology and Instrumentation for Thermal and Electromagnetic Characterization - IEMN
2 IEMN - Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520
3 MITEC - IEMN - Microtechnology and Instrumentation for Thermal and Electromagnetic Characterization - IEMN
4 Université d’Artois, IUT de Béthune, 62400, Béthune, France
5 WIND - IEMN - WIde baNd gap materials and Devices - IEMN
6 IEMN - Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520
7 MITEC - IEMN - Microtechnology and Instrumentation for Thermal and Electromagnetic Characterization - IEMN
Amine Abdelkader Guermoudi
- Fonction : Auteur
- PersonId : 1107824
Pierre-Yves Cresson
- Fonction : Auteur
- PersonId : 744583
- IdHAL : pierre-yves-cresson
- ORCID : 0000-0001-8989-0588
- IdRef : 117910627
Katir Ziouche
- Fonction : Auteur
- PersonId : 746761
- IdHAL : katir-ziouche
T. Lasri
- Fonction : Auteur
- PersonId : 751883
- IdHAL : tuami-lasri