IEMN - Deposition Techniques in Clean Room - Archive ouverte HAL
Poster De Conférence Année : 2023

IEMN - Deposition Techniques in Clean Room

Isabelle Roch-Jeune
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520
CV
Marc Dewitte
Centrale de Micro Nano Fabrication - IEMN
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520
Carlos Moncasi
Centrale de Micro Nano Fabrication - IEMN
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520
Chiara Crivello
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520
Centrale de Micro Nano Fabrication - IEMN
David Guérin
Centrale de Micro Nano Fabrication - IEMN
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520
Guillaume Cochez
Centrale de Micro Nano Fabrication - IEMN
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520
Jérémie Chaillou
Centrale de Micro Nano Fabrication - IEMN
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520

Domaines

Physique [physics] Sciences de l'ingénieur [physics]
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https://hal.science/hal-04526167

Soumis le : vendredi 29 mars 2024-10:28:58

Dernière modification le : vendredi 15 novembre 2024-09:44:28

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Dates et versions

hal-04526167 , version 1 (29-03-2024)

Identifiants

  • HAL Id : hal-04526167 , version 1

Citer

Isabelle Roch-Jeune, Marc Dewitte, Carlos Moncasi, Chiara Crivello, David Guérin, et al.. IEMN - Deposition Techniques in Clean Room. Renatech dépôts 2023, Oct 2023, Dijon, France. ⟨hal-04526167⟩

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