Elastic backscattering during boron implantation in Si1-xGex - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Vacuum Année : 2024
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Dates et versions

hal-04462559 , version 1 (16-02-2024)

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Citer

Quan Bai, Masoud Dialameh, Richard J.H. Morris, Ian Vickridge, André Vantomme, et al.. Elastic backscattering during boron implantation in Si1-xGex. Vacuum, 2024, 219, pp.112740. ⟨10.1016/j.vacuum.2023.112740⟩. ⟨hal-04462559⟩
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