Assessing advanced methods in XPS and HAXPES for determining the thicknesses of high-k oxide materials: From ultra-thin layers to deeply buried interfaces

T.R. Bure; O. Renault; E. Nolot; T. Lardin; Christine Robert-Goumet; N. Pauly

doi:10.1016/j.apsusc.2022.155317

Article Dans Une Revue Applied Surface Science Année : 2023

Assessing advanced methods in XPS and HAXPES for determining the thicknesses of high-k oxide materials: From ultra-thin layers to deeply buried interfaces

(1, 2) , (2) , (2) , (2) , (3) , (4)

1
2
3
4

T.R. Bure

Fonction : Auteur

Institut Pascal

Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives - Laboratoire d'Electronique et de Technologie de l'Information

O. Renault

Fonction : Auteur

Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives - Laboratoire d'Electronique et de Technologie de l'Information

E. Nolot

Fonction : Auteur

Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives - Laboratoire d'Electronique et de Technologie de l'Information

T. Lardin

Fonction : Auteur

Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives - Laboratoire d'Electronique et de Technologie de l'Information

Christine Robert-Goumet

Fonction : Auteur
PersonId : 21518
IdHAL : christine-robert-goumet
ORCID : 0000-0003-4215-8124
IdRef : 155142925

Institut Pascal

N. Pauly

Fonction : Auteur

Université libre de Bruxelles

Mots clés

Hard X-ray photoelectron spectroscopy (HAXPES) Inelastic background analysis Angle-resolved X-ray photoelectron spectroscopy (ARXPS) High-k materials Buried layers Atomic layer deposition (ALD)

Domaines

Physique [physics]

Christine Robert-Goumet : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.science/hal-04302795

Soumis le : jeudi 23 novembre 2023-14:50:20

Dernière modification le : mardi 3 septembre 2024-11:16:05

Dates et versions

hal-04302795 , version 1 (23-11-2023)

Identifiants

HAL Id : hal-04302795 , version 1
DOI : 10.1016/j.apsusc.2022.155317

Citer

T.R. Bure, O. Renault, E. Nolot, T. Lardin, Christine Robert-Goumet, et al.. Assessing advanced methods in XPS and HAXPES for determining the thicknesses of high-k oxide materials: From ultra-thin layers to deeply buried interfaces. Applied Surface Science, 2023, 609, pp.155317. ⟨10.1016/j.apsusc.2022.155317⟩. ⟨hal-04302795⟩

Exporter

BibTeX XML-TEI Dublin Core DC Terms EndNote DataCite

Collections

CEA PRES_CLERMONT CNRS INSTITUT_PASCAL DRT LETI CEA-GRE ANR CLERMONT-AUVERGNE-INP

17 Consultations

0 Téléchargements

Assessing advanced methods in XPS and HAXPES for determining the thicknesses of high-k oxide materials: From ultra-thin layers to deeply buried interfaces

Mots clés

Domaines

Dates et versions

Identifiants

Citer

Exporter

Collections

Altmetric

Partager