Following Ostwald ripening in nanoalloys by high-resolution imaging with single-atom chemical sensitivity - Archive ouverte HAL
Article Dans Une Revue Applied Physics Letters Année : 2012

Following Ostwald ripening in nanoalloys by high-resolution imaging with single-atom chemical sensitivity

D. Alloyeau
Laboratoire Matériaux et Phénomènes Quantiques
T. Oikawa
  • Fonction : Auteur
J. Nelayah
G. Wang
  • Fonction : Auteur
C. Ricolleau
  • Fonction : Auteur

Domaines

Physique [physics]
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D. Alloyeau, T. Oikawa, J. Nelayah, G. Wang, C. Ricolleau. Following Ostwald ripening in nanoalloys by high-resolution imaging with single-atom chemical sensitivity. Applied Physics Letters, 2012, 101 (12), pp.121920. ⟨10.1063/1.4754111⟩. ⟨hal-04277224⟩

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