Vers une approche cycle de vie de revêtements métalliques destinés à des applications industrielles - Archive ouverte HAL Access content directly
Journal Articles Matériaux & Techniques Year : 2012

Vers une approche cycle de vie de revêtements métalliques destinés à des applications industrielles

Sophie Costil
  • Function : Author
Cécile Langlade

Abstract

Les dépôts électrolytiques de chrome dur, utilisés pour protéger certaines pièces contre l’usure et la corrosion, vont disparaître à cause de l’utilisation de Cr(VI). L’évaluation environnementale de meilleures technologies en traitements de surface semble nécessaire pour innover dans ce domaine. Elle repose dans cette étude sur une analyse de cycle de vie (ACV), prenant en compte l’environnement au niveau des matériaux et des procédés. Parmi les solutions étudiées, la projection thermique, d’ores et déjà utilisée industriellement présente certains atouts bien que les résultats ne soient pas toujours satisfaisants pour des raisons de porosité et de microstructure des dépôts. L’apport du laser permettant la construction de dépôts plus denses est ici également étudié. Les deux procédés sont en fait très complémentaires et les résultats, techniques et environnementaux obtenus avec ces deux technologies, sont comparés. L’ACV réalisée sur les différents dépôts élaborés par projection plasma, projection HVOF, rechargement laser et par un procédé hybride couplant projection plasma et refusion laser in situ démontre leur avantageuse propreté par rapport aux dépôts de chrome dur. Une étude mécanique approfondie, qui justifie la durée de vie des dépôts, prouve également que ces alternatives plus écologiques sont également pertinentes pour certaines applications industrielles.

Dates and versions

hal-04259234 , version 1 (25-10-2023)

Identifiers

Cite

Nicolas Serres, Sophie Costil, Cécile Langlade. Vers une approche cycle de vie de revêtements métalliques destinés à des applications industrielles. Matériaux & Techniques, 2012, 100 (5), pp.387-400. ⟨10.1051/mattech/2011132⟩. ⟨hal-04259234⟩
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