IMPACT 1-2-3, an integrated 2D process/device simulator for MOS technology - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 1989
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-04249154 , version 1 (19-10-2023)

Identifiants

  • HAL Id : hal-04249154 , version 1

Citer

Dominique Collard, Emmanuel Dubois, B. Baccus. IMPACT 1-2-3, an integrated 2D process/device simulator for MOS technology. Digest of the software forum: Software toold for process, device and circuit modeling, Ed. W. Crans, Boole Press, Jun 1989, Zurich, Switzerland. ⟨hal-04249154⟩
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