Anisotropy in metallic thin films patterned by the atomic saw method
H Jaffrès
(1)
,
L Ressier
(2)
,
F Michelini
(3)
,
D Chandesris
(4)
,
P. Le Fèvre
(4)
,
H Magnan
(5, 6)
,
J.L Gauffier
,
R Mamy
,
M Goiran
,
J.P Peyrade
,
J.F Bobo
,
J.C Ousset
,
J.P Redoulès
,
D Bertrand
(7)
,
A.R Fert
1
Laboratoire Albert Fert (ex-UMPhy Unité mixte de physique CNRS/Thales)
2 LPCNO - Laboratoire de physique et chimie des nano-objets
3 IM2NP - Institut des Matériaux, de Microélectronique et des Nanosciences de Provence
4 LURE - Laboratoire pour l'utilisation du rayonnement électromagnétique
5 LURE - Laboratoire pour l'Utilisation du Rayonnement Electromagnétique
6 SRSIM - Service de Recherche sur les Surface et l'Irradiation de la Matière
7 Unité de physique et technologie des végétaux
2 LPCNO - Laboratoire de physique et chimie des nano-objets
3 IM2NP - Institut des Matériaux, de Microélectronique et des Nanosciences de Provence
4 LURE - Laboratoire pour l'utilisation du rayonnement électromagnétique
5 LURE - Laboratoire pour l'Utilisation du Rayonnement Electromagnétique
6 SRSIM - Service de Recherche sur les Surface et l'Irradiation de la Matière
7 Unité de physique et technologie des végétaux
H Jaffrès
- Fonction : Auteur
- PersonId : 919045
- ORCID : 0000-0002-2730-1255
- IdRef : 194980936
P. Le Fèvre
- Fonction : Auteur
- PersonId : 1035945
- IdHAL : patrick-lefevre
- ORCID : 0000-0001-9800-8059
- IdRef : 077840526
J.L Gauffier
- Fonction : Auteur
R Mamy
- Fonction : Auteur
M Goiran
- Fonction : Auteur
J.P Peyrade
- Fonction : Auteur
J.F Bobo
- Fonction : Auteur
J.C Ousset
- Fonction : Auteur
J.P Redoulès
- Fonction : Auteur
A.R Fert
- Fonction : Auteur