Molecular dynamics simulations of hydrocarbon film deposition in an Ar/CH4 low-pressure plasma - Archive ouverte HAL
Communication Dans Un Congrès Année : 2023

Molecular dynamics simulations of hydrocarbon film deposition in an Ar/CH4 low-pressure plasma

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Pascal Brault  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.science/hal-04176861

Soumis le : jeudi 3 août 2023-16:05:39

Dernière modification le : mercredi 5 juin 2024-03:21:28

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Dates et versions

hal-04176861 , version 1 (03-08-2023)

Identifiants

  • HAL Id : hal-04176861 , version 1

Citer

Glenn Christopher Otakandza Kandjani, Pascal Brault, Maxime Mikikian, Gautier Tetard, Armelle Michau, et al.. Molecular dynamics simulations of hydrocarbon film deposition in an Ar/CH4 low-pressure plasma. E-MRS 2023, May 2023, Strasbourg (FRANCE), France. ⟨hal-04176861⟩

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