Communication Dans Un Congrès
Année : 2008
Karine Pistre : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-04159326
Soumis le : mardi 11 juillet 2023-17:48:52
Dernière modification le : lundi 20 novembre 2023-11:44:21
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-04159326 , version 1
Citer
Freddy Gaboriau, Amine Erradi, Richard Clergereaux. Atomic etch effect on erosion of a:CH films deposited in DECR plasmas. Workshop on H interaction with carbon films, Marseille, France, 2008, Marseille, France. ⟨hal-04159326⟩
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