Atomic etch effect on erosion of a:CH films deposited in DECR plasmas - Archive ouverte HAL
Communication Dans Un Congrès Année : 2008
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-04159326 , version 1 (11-07-2023)

Identifiants

  • HAL Id : hal-04159326 , version 1

Citer

Freddy Gaboriau, Amine Erradi, Richard Clergereaux. Atomic etch effect on erosion of a:CH films deposited in DECR plasmas. Workshop on H interaction with carbon films, Marseille, France, 2008, Marseille, France. ⟨hal-04159326⟩
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